Информация о IC MNE 2016 и QI 2016

Доступна программа конференции (pdf)

Общая информация

Международная конференция «Микро- и наноэлектроника – 2016» (ICMNE-2016), включающая расширенную сессию «Квантовая информатика» (QI-2016), будет проводиться 3-7 октября 2016 в д/о «Ершово», Звенигород, Московская область, Россия. Она продолжает серию Всероссийских конференций «МНЕ-1999», «МНЕ-2001», «КИ-2002» и международных конференций «ICMNE-2003», «QI-2004», «ICMNE-2005», «QI-2005», «ICMNE-2007», «QI-2007», «ICMNE-2009», «QI-2009», «ICMNE-2012», «QI-2012», «ICMNE-2014» и «QI-2014».

Конференция ICMNE проводится один раз в два года и охватывает большинство областей физики микро- и наноразмерных приборов, а также микро- и наноэлектронных технологий. ICMNE-2016 будет сконцентрирована на освещении последних достижений в этой сфере. На конференции будет работать выставка, посвященная технологическому и диагностическому оборудованию для микро- и наноэлектронных применений.

Тематика:

Материалы и пленки для микро- и наноэлектронных структур:

Si, SOI, DOI, SiGe, A³B⁵, A²B⁶
High-k диэлектрики, low-k диэлектрики
Металлы для затворов, контактов и систем металлизации наноразмерных приборов
Магнитные материалы, наномагнетики
1D и 2D материалы
Материалы для оптоэлектроники, солнечной энергетики, метаматериалы

Физика микро- и наноразмерных приборов:

Тенденции масштабирования: More Moore, beyond CMOS, and more than Moore trends
Нанотранзисторы: CMOS FET, TFET, SET, молекулярные и другие
Интегральные устройства памяти, DRAM, ReRAM, FeRAM
Магнитные микро- и наноструктуры, приборы спинтроники
Сверхпроводящие микро- и наноприборы и устройства
Приборы оптоэлектроники, фотоники
Микро- и наноэлектромеханические системы (MEMS, NEMS)
Моделирование

Технологии и перспективное технологическое оборудование для производства приборов микро- и наноэлектроники:

Суб-65 нм литография: DUV, иммерсионная, EUV, электронная и ионная литография, наноимпринт
Front-End of Line (FEOL) процессы для технологии УБИС
Back-End of Line (BEOL) процессы для технологии УБИС
Технологии получения 2D материалов (графен, MoS₂, WS₂ и другие)
Технологии создания МЭМС и НЭМС
Технологии создания сверхпроводящих приборов

Метрология:

In situ методы мониторинга технологических процессов
Методы контроля, диагностики и характеризации микро- и наноструктур

Квантовая информатика:

Квантовые компьютеры: теория и эксперимент
Квантовые измерения
Квантовые алгоритмы
Квантовая связь

Организаторы и спонсоры:

Физико-технологический институт, Москва, Россия
АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники», Зеленоград, Россия
Российский фонд фундаментальных исследований, Москва, Россия
Российская академия наук, Oтделение нанотехнологий и информационных технологий
Научный Совет РАН по физическим и химическим основам полупроводникового материаловедения
SPIE – The International Society for Optical Engineering, USA — the publisher of the Conference proceedings
Институт физики полупроводников, Новосибирск, Россия
Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова, Ярославль, Россия
TechnoInfo Ltd., Wembley, UK
Компания НИКС, Москва, Россия
ЗАО «НТО» (SemiTEq), Санкт-Петербург, Россия

Язык:

Рабочий язык конференции – английский.

Тезисы докладов:

Оргкомитет ICMNE-2016 приветствует доклады, присланные от академического сообщества, университетов, отраслевой науки. Программный комитет будет оказывать предпочтение докладам, содержащим результаты последних оригинальных исследований, соответствующих тематике конференции. Тезисы докладов должны быть написаны ясным и лаконичным английским языком.

Программа конференции будет включать как приглашенные доклады, так и принятые по результатам рецензирования Программным комитетом ICMNE-2016. Рейтинговое рецензирование будет проводиться на основе присланных тезисов докладов с учетом их соответствия тематике конференции и научному качеству представленных результатов. Окончательное решение о форме представления доклада (устной или в виде постера) принимается Программным и Организационным комитетами; пожелания авторов учитываются.

Вы можете скачать шаблон одностраничных тезисов в разделе Скачать сайта конференции. Файлы с тезисами принимаются Локальным оргкомитетом ICMNE-2016 по электронной почте icmne2016@gmail.com.

Последний срок отправки тезисов — 1 августа 2016.

Принимая во внимание пожелания потенциальных участников Конференции, Оргкомитет принял решение продлить прием тезисов до 10 августа 2016 года.

Труды конференции:

SPIE Digital Library публикует полные тексты докладов в отдельном томе Proceedings of SPIE, представляющем конференцию ICMNE-2016, после окончания конференции.

Авторам необходимо подготовить рукописи полных текстов в размере научной статьи, оформленные в соответствии с правилами для Proceedings of SPIE (указаны в разделе Скачать), и направить их в издательство, используя Author Submission & Chair Review System. Тексты для публикации в SPIE должны быть написаны ясным и лаконичным английским языком. Допустимый размер статьи составляет 4-12 страниц.

Последний срок отправки рукописей полных текстов докладов в SPIE – 8 ноября 2016. Необходимо также отправить копии полнотекстовых докладов и заполненные формы SPIE о передаче авторских прав в Локальный оргкомитет ICMNE-2016. Без этого публикация в SPIE будет отклонена.

Поскольку издание Proceedings of SPIE является рецензируемым, доклады, не представленные и не обсужденные на конференции, публиковаться в нем не будут.

Теперь вы можете скачать Сборник тезисов.

Информация для докладчиков

Устные доклады

Для представления устных докладов будет предоставлено оборудование для компьютерных презентаций (мультимедийный проектор, компьютер; презентация должна быть выполнена в Microsoft PowerPoint). Во избежание проблем с несовместимостью различных версий предпочтительно использовать презентацию в формате PDF.
Оргкомитет напоминает, что официальный язык конференции – английский, что является необходимым условием проведения конференций SPIE и дальнейшей публикации материалов в трудах SPIE. Не только иллюстративный материал, но и сам доклад должен быть представлен на английском языке. При недостаточном владении разговорным английским рекомендуется пользоваться заранее приготовленным текстом. Помощь в переводе вопросов со стороны ведущего секции будет обеспечена.

Постеры

Размер стенда для стендового доклада: 120 см х 120 см. Для закрепления листов на стенде будут предоставлены удобные кнопки. Язык представления постеров – английский.