Доступна программа конференции (pdf) здесь Информация для докладчиков здесь

Международная конференция "Микро- и наноэлектроника – 2016" (ICMNE-2016), включающая расширенную сессию "Квантовая информатика" (QI-2016), будет проводиться 3-7 октября 2016 в д/о "Ершово", Звенигород, Московская область, Россия. Она продолжает серию Всероссийских конференций "МНЕ-1999", "МНЕ-2001", "КИ-2002" и международных конференций "ICMNE-2003", "QI-2004", "ICMNE-2005", "QI-2005", "ICMNE-2007", "QI-2007", "ICMNE-2009", "QI-2009", "ICMNE-2012", "QI-2012", "ICMNE-2014" и "QI-2014".

   Конференция ICMNE проводится один раз в два года и охватывает большинство областей физики микро- и наноразмерных приборов, а также микро- и наноэлектронных технологий. ICMNE-2016 будет сконцентрирована на освещении последних достижений в этой сфере. На конференции будет работать выставка, посвященная технологическому и диагностическому оборудованию для микро- и наноэлектронных применений.

Тематика:

Материалы и пленки для микро- и наноэлектронных структур:

• Si, SOI, DOI, SiGe, A³B⁵, A²B⁶
• High-k диэлектрики, low-k диэлектрики
• Металлы для затворов, контактов и систем металлизации наноразмерных приборов
• Магнитные материалы, наномагнетики
• 1D и 2D материалы
• Материалы для оптоэлектроники, солнечной энергетики, метаматериалы

Физика микро- и наноразмерных приборов:

• Тенденции масштабирования: More Moore, beyond CMOS, and more than Moore trends
• Нанотранзисторы: CMOS FET, TFET, SET, молекулярные и другие
• Интегральные устройства памяти, DRAM, ReRAM, FeRAM
• Магнитные микро- и наноструктуры, приборы спинтроники
• Сверхпроводящие микро- и наноприборы и устройства
• Приборы оптоэлектроники, фотоники
• Микро- и наноэлектромеханические системы (MEMS, NEMS)
• Моделирование

Технологии и перспективное технологическое оборудование для производства приборов микро- и наноэлектроники:

• Суб-65 нм литография: DUV, иммерсионная, EUV, электронная и ионная литография, наноимпринт
• Front-End of Line (FEOL) процессы для технологии УБИС
• Back-End of Line (BEOL) процессы для технологии УБИС
• Технологии получения 2D материалов (графен, MoS₂, WS₂ и другие)
• Технологии создания МЭМС и НЭМС
• Технологии создания сверхпроводящих приборов

Метрология:

• In situ методы мониторинга технологических процессов
• Методы контроля, диагностики и характеризации микро- и наноструктур

Квантовая информатика:

• Квантовые компьютеры: теория и эксперимент
• Квантовые измерения
• Квантовые алгоритмы
• Квантовая связь

Организаторы и спонсоры:

• Физико-технологический институт, Москва, Россия
• АО "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники", Зеленоград, Россия
• Российский фонд фундаментальных исследований, Москва, Россия
• Российская академия наук, Oтделение нанотехнологий и информационных технологий
• Научный Совет РАН по физическим и химическим основам полупроводникового материаловедения
• SPIE – The International Society for Optical Engineering, USA - the publisher of the Conference proceedings
• Институт физики полупроводников, Новосибирск, Россия
• Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
• Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова, Ярославль, Россия
• TechnoInfo Ltd., Wembley, UK
• Компания НИКС, Москва, Россия
• ЗАО "НТО" (SemiTEq), Санкт-Петербург, Россия

Язык:

Рабочий язык конференции – английский.

Тезисы докладов:

   Вы можете скачать шаблон одностраничных тезисов в разделе Скачать сайта конференции. Файлы с тезисами принимаются Локальным оргкомитетом ICMNE-2016 по электронной почте icmne2016@gmail.com.

Последний срок отправки тезисов - 1 августа 2016.

   Принимая во внимание пожелания потенциальных участников Конференции, Оргкомитет принял решение продлить прием тезисов до 10 августа 2016 года.

Труды конференции:

   SPIE Digital Library публикует полные тексты докладов в отдельном томе Proceedings of SPIE, представляющем конференцию ICMNE-2016, после окончания конференции.

   Авторам необходимо подготовить рукописи полных текстов в размере научной статьи, оформленные в соответствии с правилами для Proceedings of SPIE (указаны в разделе Скачать), и направить их в издательство, используя Author Submission & Chair Review System. Тексты для публикации в SPIE должны быть написаны ясным и лаконичным английским языком. Допустимый размер статьи составляет 4-12 страниц.

   Последний срок отправки рукописей полных текстов докладов в SPIE – 8 ноября 2016. Необходимо также отправить копии полнотекстовых докладов и заполненные формы SPIE о передаче авторских прав в Локальный оргкомитет ICMNE-2016. Без этого публикация в SPIE будет отклонена.

   Поскольку издание Proceedings of SPIE является рецензируемым, доклады, не представленные и не обсужденные на конференции, публиковаться в нем не будут.

   Теперь вы можете скачать Сборник тезисов.