Предварительный список докладчиков здесь

14-я Международная конференция "Микро- и наноэлектроника – 2021" (ICMNE-2021), включающая расширенную сессию "Квантовая информатика", будет проводиться в очно-заочной форме 4-8 октября 2021 в парк-отеле "Ершово", Звенигород, Московская область, Россия. Она продолжает серию Всероссийских конференций МНЕ-1999, МНЕ-2001, КИ-2002 и международных конференций ICMNE-2003, QI-2004, ICMNE-2005, QI-2005, ICMNE-2007, QI-2007, ICMNE-2009, QI-2009, ICMNE-2012, QI-2012, ICMNE-2014, QI-2014, ICMNE-2016, QI-2016, ICMNE-2018 и QI-2018.

   Конференция ICMNE проводится один раз в два года и охватывает большинство областей микро- и наноэлектронных технологий, а также физики микро- и наноразмерных приборов. ICMNE-2021 будет сконцентрирована на освещении последних достижений в этой сфере.

Тематика:

Физика микро- и наноразмерных приборов:

• Проблемы и пути масштабирования наноразмерных приборов и интегральных схем.
• Нанотранзисторы: CMOS FET, TFET, SET, молекулярные транзисторы и переключатели и т.д.
• Интегральные устройства памяти: DRAM, ReRAM, FeRAM.
• Приборы с 1D и 2D каналами.
• Углеродная микро- и наноэлектроника.
• Твердотельные приборы для THz генерации и детектирования.
• Магнитные микро- и наноструктуры и приборы, спинтроника.
• Сверхпроводящие микро- и наноприборы и устройства.
• Приборы оптоэлектроники, фотоники.
• Сенсоры, микро- и наноэлектромеханические системы (MEMS, NEMS, BioMEMS).
• Моделирование приборов.

Технология и характеризация материалов для микро- и наноэлектроники:

• Si, SOI, SiGe, A³B⁵, A²B⁶.
• High-k, low-k диэлектрики.
• Металлические пленки в приборных структурах УБИС.
• 1D, 2D материалы.
• Магнитные материалы, наномагнетики.
• Материалы оптоэлектроники, фотовольтаики, метаматериалы.

Технологические процессы и перспективное технологическое оборудование микро- и наноэлектроники:

• Литография: иммерсионная, EUV, электронная и ионная литография, наноимпринт.
• Front-End of Line (FEOL) процессы для технологии УБИС.
• Back-End of Line (BEOL) процессы для технологии УБИС.
• Front-End of Line (FEOL) процессы для технологии УБИС.
• Технологии 3D-интеграции интегральных схем.
• Технология 2D материалов и структур для наноэлектроники (графен, MoS₂, WS₂ и др.
• Технологии 1D структур (нанопровода, нанотрубки).
• Технологии MEMS, NEMS, BioMEMS.
• Технологии изготовления сверхпроводящих приборов.

Метрология:

• Методы диагностики и управления технологическими процессами In situ (End-point детекторы, смарт-сенсоры).
• Методы контроля, диагностики и характеризации микро- и наноструктур.

Квантовая информатика:

• Квантовые компьютеры: теория и эксперимент.
• Квантовые измерения.
• Квантовые алгоритмы.
• Квантовая связь.

Организаторы и спонсоры:

• Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, Москва, Россия
• АО "НИИМЭ", Зеленоград, Россия
• Российский фонд фундаментальных исследований, Москва, Россия
• Oтделение нанотехнологий и информационных технологий РАН
• SPIE – The International Society for Optical Engineering
• Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия
• Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
• Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова, Ярославль, Россия
• TechnoInfo Ltd., Wembley, UK
• Компания НИКС, Москва, Россия

Язык:

Рабочий язык конференции – английский.